Baca berita dengan sedikit iklan, klik di sini
TEMPO.CO, Jakarta - Bulan lalu Samsung mengumumkan telah memulai produksi chip berbasis node manufaktur 3-nanometer (nm) menggunakan arsitektur transistor Gate-All-Around (GAA). Dan pada Senin, 25 Juli 2022, perusahaan mengumumkan bahwa mereka mulai melakukan pengiriman chip 3nm pertama menggunakan teknologi GAA Gate All Around di jalur V1 (khusus EUV) di Kampus Hwaseong.
Baca berita dengan sedikit iklan, klik di sini
Pada acara tersebut dihadiri oleh sekitar 100 orang, termasuk Menteri Perdagangan, Industri dan Energi Changyang Lee, pemasok, kepala divisi Samsung Electronics DS, Kye Kyung-hyeon (CEO), eksekutif dan karyawan.
Baca berita dengan sedikit iklan, klik di sini
Divisi Foundry Samsung Electronics ingin memperkuat daya saing bisnisnya melalui produksi massal proses 3-nano GAA dan teknologi pengecoran pre-emptive. "Kami akan bergerak maju dengan teknologi inovatif untuk menjadi yang terbaik di dunia," ujar perusahaan. Produk baru ini tentu menjanjikan dukungan untuk ekosistem semikonduktor negara tersebut.
Samsung mengatakan bahwa pihaknya berencana untuk memperluas produksi chip 3-nano GAA ke Kampus Pyeongtaek di masa depan. Sedangkan kompetitornya, TSMC, mungkin mulai produksi chip 3nm pada kuartal 4 2022.
Mengenai tonggak baru ini, kepala divisi DS Samsung Electronics Kye-hyung menyatakan bahwa Samsung Electronics telah menandai tonggak sejarah dalam bisnis pengecoran dengan produksi massal produk ini. “Perkembangan awal teknologi GAA, yang akan menjadi alternatif baru ketika transistor FinFET mencapai batas teknologinya. Ini adalah hasil inovatif dari menciptakan sesuatu dari ketiadaan,” kata Kye hyung.
Proses Pengerjaan
Samsung Electronics mulai meneliti transistor GAA pada awal tahun 2000-an dan bereksperimen dengan desain itu pada tahun 2017. Sekarang Samsung siap untuk memproduksi chip secara massal menggunakan proses baru.
Dibandingkan dengan desain FinFET, yang telah menjadi standar selama beberapa tahun, desain Gate-All-Around memungkinkan transistor untuk membawa lebih banyak arus sementara tetap relatif kecil.
Menurut Samsung, chip GAA 3nm akan menggunakan daya 45 persen lebih sedikit, menjadi 23 persen lebih cepat, dan menjadi 16 persen lebih kecil dibandingkan dengan chip FinFET 5nm yang serupa. Ini merupakan generasi pertama dari proses GAA, dan diharapkan pada Gen 2 akan lebih meningkatkan metrik ini.
Samsung tidak mengatakan jenis chip apa yang ditebar untuk pengiriman pertama, tetapi perusahaan berencana untuk mengembangkan chipset smartphone menggunakan desain 3nm GAA.
Foto 
